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31.
서명
Fluorinated compounds for advanced IC interconnect applications: a survey of chemistries and processes/ 미리보기
저자
Mocella, M. T
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
32.
서명
Design of very transparent fluoropolymer resists for semiconductor manufacture at 157 nm/ 미리보기
저자
Feiring, A. E
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
33.
서명
IFC/ 미리보기
저자
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
34.
서명
Preface/ 미리보기
저자
Smart, B. E
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
35.
서명
The use of fluoropolymers to protect semiconductor materials/ 미리보기
저자
Extrand, C. W
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
36.
서명
Fluorocarbon dielectrics via hot filament chemical vapor deposition/ 미리보기
저자
Lau, K. K
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
37.
서명
Quantum chemical modeling for 157 nm photolithography/ 미리보기
저자
Waterland, R. L
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
38.
서명
Time-dependent density functional theory calculations of the photoabsorption of fluorinated alkanes/ 미리보기
저자
Zhan, C. G
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
39.
서명
Fluorinated gases for semiconductor manufacture: process advances in chemical vapor deposition chamber cleaning/ 미리보기
저자
Allgood, C. C
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
40.
서명
Vacuum-UV influenced design of polymers and dissolution inhibitors for next generation photolithography/ 미리보기
저자
Trinque, B. C
발행처
Elsevier]
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
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