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1.
서명
Chemical vapor deposition-formed p-type ZnO thin films/ 미리보기
저자
Li, X
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
2.
서명
Characteristics of C~4F~8 plasmas with Ar, Ne, and He additives for SiO~2 etching in an inductively coupled plasma (ICP) reactor/ 미리보기
저자
Li, X
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
3.
서명
Spatially resolved mass spectrometric sampling of inductively coupled plasmas using a movable sampling orifice/ 미리보기
저자
Li, X
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
1 

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