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제한항목: Lee, J. W; 1980; Electrochemical Society

검색간략리스트

1.

서명: Cl~2-Based Dry Etching of GaAs, AlGaAs, and GaP
저자: Lee, J. W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

2.

서명: Oxidation of Silicon Using Electron Cyclotron Resonance Nitrous Oxide Plasma and Its Application to Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors
저자: Lee, J.-W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

3.

서명: High Ion Density Plasma Etching of InGaP, AlInP, and AlGaP in CH~4/H~2/Ar
저자: Lee, J. W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

4.

서명: Wet and Dry Etching of LiGaO~2 and LiAlO~2
저자: Lee, J. W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

5.

서명: Inductively Coupled Plasma Etch Damage in GaAs and InP Schottky Diodes
저자: Lee, J. W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

6.

서명: Wet Chemical Etch Solutions for Al~xGa~1~-~xP
저자: Lee, J. W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

7.

서명: Inductively Coupled Ar Plasma Damage in AlGaAs
저자: Lee, J. W
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

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