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제한항목: Hara, T; 1980; Electrochemical Society

검색간략리스트

1.

서명: Delaminations of Thin Layers by High Dose Hydrogen Ion Implantation in Silicon. Formation of Thin Silicon on Insulator Silicon Layers
저자: Hara, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

2.

서명: Barrier Effect of TaSiN Layer for Oxygen Diffusion
저자: Hara, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

3.

서명: Ion Implantation and Annealing Conditions for Delamination of Silicon Layers by Hydrogen Ion Implantation
저자: Hara, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

4.

서명: Minority Carrier Lifetime Measurement in Epitaxial Silicon Layers
저자: Hara, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

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