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전방일치
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검색어
[전방일치/ 기사저자명:Gossmann H.-J.]
총
12
건 중
12
건 출력
1/2
페이지
검색결과제한
자료유형
기사
(12)
저자
Herner, S. B
(3)
Agarwal, A
(2)
Eaglesham, D. J
(1)
Gossmann, H.-J
(1)
Kimura, K
(1)
Mogi, T. K
(1)
Pelaz, L
(1)
Stolk, P. A
(1)
Voyles, P. M
(1)
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출판사
American Institute of Physics
(11)
American Physical Society
(1)
발행년도
1980
(11)
2003
(1)
검색간략리스트
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기사제목
기사저자명
출판사
발행년
정렬
오름차순
내림차순
5
10
15
20
30
50
100
1.
기사제목
Transient enhanced diffusion of Sb and B due to MeV silicon implants
기사저자명
Eaglesham, D. J
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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2.
기사제목
Interstitial defects in silicon from 1-5 keV Si^+ ion implantation
기사저자명
Agarwal, A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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3.
기사제목
B diffusion and clustering in ion implanted Si: The role of B cluster precursors
기사저자명
Pelaz, L
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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4.
기사제목
Point defects in Si after formation of a TiSi~2 film: Evidence for vacancy supersaturation and interstitial depletion
기사저자명
Herner, S. B
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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5.
기사제목
Capture of vacancies by extrinsic dislocation loops in silicon
기사저자명
Herner, S. B
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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6.
기사제목
Reduction of transient diffusion from 1-5 key Si^+ ion implantation due to surface annihilation of interstitials
기사저자명
Agarwal, A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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7.
기사제목
Anomalous surface segregation of Sb in Si during epitaxial growth
기사저자명
Kimura, K
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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8.
기사제목
The interstitial fraction of diffusivity of common dopants in Si
기사저자명
Gossmann, H.-J
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
원문복사 신청
9.
기사제목
Investigation of mechanisms of vacancy generation in silicon in the presence of a TiSi~2 film
기사저자명
Herner, S. B
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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10.
기사제목
Thermal nitridation enhanced diffusion of Sb and Si(100) doping superlattices
기사저자명
Mogi, T. K
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사
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1
2
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