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검색어[전방일치/ 기사저자명:Hwang G. S.]
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1.
기사제목
How tunneling currents reduce plasma-induced charging 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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2.
기사제목
Aspect-ratio-dependent charging in high-density plasmas 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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3.
기사제목
On the Origin of Charging Damage during Etching of Antenna Structures 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
Electrochemical Society
발행년
1980
자료유형
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4.
기사제목
The influence of mask thickness on charging damage during overetching 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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5.
기사제목
Prediction of multiple-feature effects in plasma etching 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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6.
기사제목
The influence of electron temperature on pattern-dependent charging during etching in high-density plasmas 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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7.
기사제목
Pattern-Dependent Charging in Plasmas: Electron Temperature Effects 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Physical Society
발행년
1980
자료유형
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8.
기사제목
Aspect ratio independent etching of dielectrics 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
9.
기사제목
The Role of the Substrate on Pattern-Dependent Charging 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
Electrochemical Society
발행년
1980
자료유형
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10.
기사제목
Simulation of current transients through ultrathin gate oxides during plasma etching 미리보기
기사저자명
Hwang, G. S
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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