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검색어[전방일치/ 기사저자명:Kukli K]
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1.
기사제목
Tailoring the dielectric properties of HfO~2-Ta~2O~5 nanolaminates 미리보기
기사저자명
Kukli, K
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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2.
기사제목
Properties of Ta~2O~5-Based Dielectric Nanolaminates Deposited by AtomicLayer Epitaxy 미리보기
기사저자명
Kukli, K
출판사
Electrochemical Society
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
3.
기사제목
Electrochemical/Chemical Deposition and Etching - Atomic layer Chemical Vapor Deposition of TiO2. Low Temperature Epitaxy of Rutile and Anatase/ 미리보기
기사저자명
Schuisky, M
출판사
Electrochemical Society
발행년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
4.
기사제목
Atomic layer deposition of HfO2 thin films and nanolayered HfO2-Al2O3-Nb2O5 dielectrics/ 미리보기
기사저자명
Ritala, M.; Rai, R.; Leskela, M.; Hegde, R.; Sajavaara, T.; Kukli, K. Gilmer, D. C.; Prabhu, L. Keinonen, J.;
출판사
Chapman and Hall
발행년
2003
자료유형
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