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1.
기사제목
Influence of substrate-boron concentration on the residual end-of-range defects in 450 � annealed As^+-implanted junctions 미리보기
기사저자명
Nakada, A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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2.
기사제목
Analysis of n^+ p silicon junctions with varying substrate doping concentrations made under ultraclean processing technology 미리보기
기사저자명
Aharoni, H
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
3.
기사제목
Influence of fluorine in BF~2 implantation on the formation of ultrashallow and low-leakage silicon p n junctions by 450 500 � annealing 미리보기
기사저자명
Nakada, A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
5.
기사제목
Dependence of ion implantation: Induced defects on substrate doping/ 미리보기
기사저자명
Kanemoto, Kei
출판사
American Institute of Physics
발행년
2001
자료유형
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