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검색어[전방일치/ 기사저자명:Samukawa S.]

총 4건 중 4건 출력

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1.

기사제목: Pulse-time-modulated electron cyclotron resonance plasma etching with low radio-frequency substrate bias
기사저자명: Samukawa, S
출판사: American Institute of Physics
발행년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청

2.

기사제목: Effect of a multiple-cusp magnetic field on electron confinement in a pulse-time-modulated plasma
기사저자명: Samukawa, S
출판사: American Institute of Physics
발행년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청

3.

기사제목: Charge-free etching process using positive and negative ions in pulse-time modulated electron cyclotron resonance plasma with low-frequency bias
기사저자명: Ohtake, H
출판사: American Institute of Physics
발행년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청

4.

기사제목: Effects of electron temperature in high-density Cl~2 plasma for precise etching processes
기사저자명: Samukawa, S
출판사: American Institute of Physics
발행년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청

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