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검색어[전방일치/ 기사저자명:Stolk P. A.]
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1.
기사제목
Iron gettering mechanisms in silicon 미리보기
기사저자명
Benton, J. L
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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2.
기사제목
Formation of extended defects in silicon by high energy implantation of B and P 미리보기
기사저자명
Cheng, J. Y
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
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3.
기사제목
Physical mechanisms of transient enhanced dopant diffusion in ion-implanted silicon 미리보기
기사저자명
Stolk, P. A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
4.
기사제목
The mechanism of iron gettering in boron-doped silicon 미리보기
기사저자명
Stolk, P. A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
5.
기사제목
The interstitial fraction of diffusivity of common dopants in Si 미리보기
기사저자명
Gossmann, H.-J
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
6.
기사제목
Ultrafast interstitial injection during transient enhanced diffusion of boron in silicon 미리보기
기사저자명
Huizing, H. G. A
출판사
American Institute of Physics
발행년
1980
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
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