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Suppression of Aluminum Contamination in Polysilicon Reactive Ion Etching Using Highly Purified Chlorine Gas

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자료유형학술지논문
논문명Suppression of Aluminum Contamination in Polysilicon Reactive Ion Etching Using Highly Purified Chlorine Gas
저자명Sato, M.
학술지명JOURNAL- ELECTROCHEMICAL SOCIETY
발행년도1980
권호사항vol: 144 no: 7 ( 199
발행처Electrochemical Society
페이지2541
언어eng

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No. 권호·제본정보 보기 소장처 소장사항 청구기호 구독 최근입수호
1 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ 621.3805 J86
2 중앙도서관/3층 연속간행물실/ 621.3805 J86 구독중단 Vol.158 No.12

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