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Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Low-Temperature Preparation of Oxygen- and Carbon-Free Silicon and Silicon-Germanium Surfaces for Silicon and Silicon-Germanium Epitaxial Growth by Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition/
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| No. | 권호·제본정보 보기 | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ | 621.3805 J86 | ||||
| 2 | 중앙도서관/3층 연속간행물실/ | 621.3805 J86 | 구독중단 | Vol.158 No.12 |
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