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The characteristics before and after annealing of amorphous silicon films prepared by ECR plasma CVD
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| No. | 권호·제본정보 보기 | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 |
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| 1 | 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ | 530.05 J86c | ||||
| 2 | 중앙도서관/3층 연속간행물실/ | 530.05 J86c | 구독중단 | vol.195 no.1/2 |
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