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Study of effect of SiH~4 gas heating during growth of hydrogenated microcrystalline silicon on SiO~2 by plasma-enhanced chemical-vapor deposition
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| No. | 권호·제본정보 보기 | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 |
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| 1 | 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ | 530.5 J86a | ||||
| 2 | 중앙도서관/3층 연속간행물실/ | 530.5 J86a | 구독중단 | v.112 no.12 |
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