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Gas phase and surface kinetics in plasma enhanced chemical vapor deposition of microcrystalline silicon: The combined effect of rf power and hydrogen dilution/
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| No. | 권호·제본정보 보기 | 소장처 | 소장사항 | 청구기호 | 구독 | 최근입수호 |
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| 1 | 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ | 530.5 J86a | ||||
| 2 | 중앙도서관/3층 연속간행물실/ | 530.5 J86a | 구독중단 | v.112 no.12 |
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