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Amorphouslike chemical vapor deposited tungsten diffusion barrier for copper metallization and effects of nitrogen addition
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| 1 | 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ | 530.5 J86a | ||||
| 2 | 중앙도서관/3층 연속간행물실/ | 530.5 J86a | 구독중단 | v.112 no.12 |
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