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Nickel and copper deposition on Al~2O~3 and SiC particulates by using the chemical vapour deposition-fluidized bed reactor technique
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| 1 | 중앙도서관/3층 연속간행물(보존)/ | 620.1005 J86 | ||||
| 2 | 중앙도서관/3층 연속간행물실/ | 620.1005 J86 | 구독중단 | v.47 no.24 |
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