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Effects of wall contamination on consecutive plasma processes/

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자료유형학술지논문
논문명Effects of wall contamination on consecutive plasma processes/
저자명Yasuda, H K
학술지명Journal of vacuum science ＆ technology.
발행년도2001
권호사항Vol.19 No.5
발행처Published for the Society by the American Institute of Physics
페이지p.2074-2082
언어eng

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No. 권호·제본정보 보기 소장처 소장사항 청구기호 구독 최근입수호
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