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제한항목: Im, Y H; Published for the Society by the American Institute of Physics

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1.

서명: Dry etching of SrBi2Ta2O9 thin films in Cl2/NF3/O2/Ar inductively coupled plasmas/
저자: Im, Y H
발행처: Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년: 2001
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

2.

서명: Cl2-based dry etching of GaN films under inductively coupled plasma conditions/
저자: Im, Y H
발행처: Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년: 2000
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

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