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제한항목: Homma, T; Electrochemical Society

검색간략리스트

1.

서명: Characteristics of SiOF Films Formed Using Tetraethylorthosilicate and Fluorotriethoxysilane at Room Temperature by Chemical Vapor Deposition
저자: Homma, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

2.

서명: Electrochemical/Chemical Deposition and Etching - Electrochemical Studies on the Deposition Process of Electroless CoNiP Films with Graded Magnetic Properties/
저자: Homma, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 2000
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

3.

서명: Gradient Control of Magnetic Properties in Electroless-Deposited CoNiP Thin Films
저자: Homma, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

4.

서명: Properties of Fluorinated Silicon Oxide Films Formed Using Fluorotriethoxysilane for Interlayer Dielectrics in Multilevel Interconnections
저자: Homma, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

5.

서명: Tapping Mode Atomic Force Microscopy Analysis of the Growth Process of Electroless Nickel-Phosphorus Films on Nonconducting Surfaces
저자: Homma, T
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

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