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제한항목: Kim, D. H; Electrochemical Society

검색간략리스트

1.

서명: Characteristics of Tungsten Carbide Films Prepared by Plasma-Assisted ALD Using Bis(tert-butylimido)bis(dimethylamido)tungsten/
저자: Kim, D.-H
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 2003
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

2.

서명: Electrochemical/Chemical Deposition and Etching - Metallorganic Chemical Vapor Deposition of Pb(Zr, Ti)O3 Films Using a Single Mixture of Metallorganic Precursors/
저자: Kim, D-H
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 2001
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

3.

서명: Electrochemical/Chemical Deposition and Etching - Morphology and Hole Filling Properties of Chemically Vapor Deposited Aluminum Films Prepared from Dimethylethylamine Alane/
저자: Kim, D-H
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 2001
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

4.

서명: Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Films at LowTemperatures from Si~2H~6-H~2-SiF~4
저자: Kim, D.-H
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

5.

서명: Stability of TiN Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Tetrakis-dimethylamino Titanium
저자: Kim, D.-H
발행처: Electrochemical Society
원문제공시작년: 1980
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

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