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제한항목: Li, X; Published for the Society by the American Institute of Physics

검색간략리스트

1.

서명: Characteristics of C~4F~8 plasmas with Ar, Ne, and He additives for SiO~2 etching in an inductively coupled plasma (ICP) reactor/
저자: Li, X
발행처: Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년: 2003
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

2.

서명: Chemical vapor deposition-formed p-type ZnO thin films/
저자: Li, X
발행처: Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년: 2003
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

3.

서명: Spatially resolved mass spectrometric sampling of inductively coupled plasmas using a movable sampling orifice/
저자: Li, X
발행처: Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년: 2003
자료유형: 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년

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