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1.
서명
Abatement of C2F6 in rf and microwave plasma reactors/ 미리보기
저자
Vitale, Steven A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
2.
서명
Etching chemistry of benzocyclobutene (BCB) low-k dielectric films in F2+O2 and Cl2+O2 high density plasmas/ 미리보기
저자
Vitale, Steven A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
3.
서명
ilicon etching yields in F2, Cl2, Br2, and HBr high density plasmas/ 미리보기
저자
Vitale, Steven A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
1 

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