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Published for the Society by the American Institute of Physics
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Valentini, L
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Jang, H K
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Published for the Society by the American Institute of Physics
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2000
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30
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281.
서명
Growth of NiO films on various GaAs faces via electron bombardment evaporation/
저자
Nishita, K
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
282.
서명
Growth of well-aligned carbon nanotubes on nickel by hot-filament-assisted dc plasma chemical vapor deposition in a CH4/H2 plasma/
저자
Hayashi, Yasuaki
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
283.
서명
Growth, structure, and mechanical properties of CNxHy films deposited by dc magnetron sputtering in N2/Ar/H2 discharges/
저자
Hellgren, Niklas
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
284.
서명
HfO2-SiO2 interface in PVD coatings/
저자
Cosnier, V
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
285.
서명
High density plasma oxide etching using nitrogen trifluoride and acetylene/
저자
Pruette, Laura
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
286.
서명
High-frequency noise measurements in spin-valve devices/
저자
Stutzke, N. A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
287.
서명
Highly oriented SrTiO~3 thin film on Si deposited by magnetron sputtering/
저자
Wang, Y
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
288.
서명
High-rate deposition of abrasion resistant coatings using a dual-source expanding thermal plasma reactor/
저자
Schaepkens, M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
289.
서명
High-rate deposition of ZnO thin films by vacuum arc plasma evaporation/
저자
Miyata, T
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
290.
서명
High rate sputtering for Ni films by an rf-dc coupled magnetron sputtering system with multipolar magnetic plasma confinement/
저자
Kawabata, K
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
291.
서명
High-temperature fiber matrices: Electrospinning and rare-earth modification/
저자
Kataphinan, W
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
292.
서명
High-temperature interaction of nitrogen with thin iron films: Thermal desorption kinetics studies combined with microstructure analysis of Fe-N films/
저자
Lisowski, W
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
293.
서명
High-temperature stability of nichrome in reactive environments/
저자
Zhou, J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
294.
서명
How low-energy ions can enhance depositions on low-K dielectrics/
저자
Abramowitz, Peter
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
295.
서명
Hydrogen contamination in Ge-doped SiO~2 thin films prepared by helicon activated reactive evaporation/
저자
Li, W. T
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
296.
서명
Hydrogen elimination reactions in the thermal decomposition of alcohols on Si(100) surfaces/
저자
Yoon, W. J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
297.
서명
Hydrogen-induced surface blistering of sample chuck materials in hydrogen plasma immersion ion implantation/
저자
Chu, Paul K
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
298.
서명
Hydrogen outgasing from titanium-modified layers with various surface treatments
저자
Mizuno, Y
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
299.
서명
Hysteresis and mode transitions in a low-frequency inductively coupled plasma/
저자
Xu, S
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
300.
서명
ilicon etching yields in F2, Cl2, Br2, and HBr high density plasmas/
저자
Vitale, Steven A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
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