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Published for the Society by the American Institute of Physics
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Valentini, L
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Jang, H K
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Published for the Society by the American Institute of Physics
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341.
서명
Interfacial reaction pathways and kinetics during annealing of 111-textured Al/TiN bilayers: A synchrotron x-ray diffraction and transmission electron microscopy study/
저자
Chun, J-S
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
342.
서명
Interfacial silicon oxide formation during oxygen annealing of Ta2O5 thin films on Si: Oxygen isotope labeling/
저자
Park, H J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
343.
서명
Interpretation of the Shirley background in x-ray photoelectron spectroscopy analysis/
저자
Castle, J E
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
344.
서명
Introduction: 50 Years of Science, Technology, and the AVS (1953-2003)/
저자
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
345.
서명
Investigation of diamond film deposition on steel without and with ion beam nitriding pretreatment/
저자
Shang, N G
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
346.
서명
Investigation of dilute SF6 discharges for application to SiC reactive ion etching/
저자
Scofield, J D
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
347.
서명
Investigation of interactions between inert gases and nitrogen in direct current triode discharges/
저자
Davison, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
348.
서명
Investigation of oxide (V~2O~5) thin films as electrodes for rechargeable microbatteries using Li/
저자
Talledo, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
349.
서명
Investigation of polycrystalline silicon grain structure with single wafer chemical vapor deposition technique/
저자
Bu, H
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
350.
서명
Investigation of Si-doped diamond-like carbon films synthesized by plasma immersion ion processing/
저자
He, X M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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351.
서명
Investigation of SrBi~2Ta~2O~9 thin films etching mechanisms in Cl~2/Ar plasma/
저자
Efremov, A. M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
352.
서명
Investigation of the adhesion, friction, and wear properties of biphenyl thiol self-assembled monolayers by atomic force microscopy/
저자
Liu, Huiwen
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
353.
서명
Investigation of the morphology of the initial growth of the aromatic molecule p-quaterphenyl on NaCl (001)/
저자
Kintzel Jr, E J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
354.
서명
Investigation of the outgassing characteristics of the materials comprising a plasma display panel/
저자
Han, H R
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
355.
서명
Investigation of the penetration of atomic hydrogen from the gas phase into SiO2/GaAs/
저자
Kagadei, V A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
356.
서명
Investigation of the role of plasma conditions on the deposition rate and electrochromic performance of tungsten oxide thin films/
저자
Seman, M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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357.
서명
Ion and substrate effects on surface reactions of CF2 using C2F6, C2F6/H2, and hexafluoropropylene oxide plasmas/
저자
Butoi, Carmen I
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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358.
서명
Ion-assisted deposition of silicon nitride films using electron cyclotron resonance plasma/
저자
Vargheese, K Deenamma
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
359.
서명
Ion bombardment energy and SiO2/Si fluorocarbon plasma etch selectivity/
저자
Wang, S-B
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
360.
서명
Ion energy and angular distribution at the radio frequency biased electrode in an inductively coupled plasma apparatus/
저자
Mizutani, Naoki
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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