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541.
서명
Reactive deposition of compounds by a cavity-hollow cathode direct current sputtering system/ 미리보기
저자
Kazemeini, Mehdi H
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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542.
서명
Reactive magnetron sputter-deposition of NbN and (Nb, Ti)N films related to sputtering source characterization and optimization/ 미리보기
저자
Iosad, N N
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
543.
서명
Reactive pulsed magnetron sputtering process for alumina films/ 미리보기
저자
Kelly, P J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
544.
서명
Reactivity of heteropolyanions toward GaAs compound/ 미리보기
저자
Rothschild, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
545.
서명
Real-time control of ion density and ion energy in chlorine inductively coupled plasma etch processing/ 미리보기
저자
Chang, C.-H
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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546.
서명
Real-time etching monitor using argon quadrupole mass spectrometry for 100 nm class WSiN gate fabrication/ 미리보기
저자
Jin, Y
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
547.
서명
Real-time/in situ diffraction study of phase and microstructural evolution in sputtered b-Ta/Ta2O5 films/ 미리보기
저자
Whitacre, J F
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
548.
서명
Recommended practice for calibrating vacuum gauges of the thermal conductivity type/ 미리보기
저자
Ellefson, R E
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
549.
서명
Red SrTiO3:Pr,Al phosphor as potential field emission display material/ 미리보기
저자
Yokoyama, Meiso
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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원문제공마감년
550.
서명
Reduction of artifacts in temperature programmed desorption measurements of field generated, real-life, powered samples/ 미리보기
저자
Smentkowski, V S
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
551.
서명
Reduction of etching damage in lead-zirconate-titanate thin films with inductively coupled plasma/ 미리보기
저자
Lim, K.-T
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
552.
서명
Reflection high-energy electron diffraction study of ion-beam induced carbonization for 3C-SiC heteroepitaxial growth on Si (100)/ 미리보기
저자
Tsubouchi, Nobuteru
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
553.
서명
Relation between the ion flux, gas phase composition, and wall conditions in chlorine plasma etching of silicon/ 미리보기
저자
Ullal, S. J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
554.
서명
Relationship between deprotection and film thickness loss during plasma etching of positive tone chemically amplified resists/ 미리보기
저자
Mahorowala, A P
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
555.
서명
Relationship of etch reaction and reactive species flux in C4F8/Ar/O2 plasma for SiO2 selective etching over Si and Si3N4/ 미리보기
저자
Matsui, Miyako
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
556.
서명
Remote plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition of TiN from tetrakis-dimethyl-amido-titanium/ 미리보기
저자
Yun, Ju-Young
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
557.
서명
Residual stress formation in multilayered TiN/TaNx coatings during reactive magnetron sputter deposition/ 미리보기
저자
Nordin, M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
558.
서명
Resonant infrared pulsed-laser deposition of polymer films using a free-electron laser/ 미리보기
저자
Bubb, Daniel M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
559.
서명
Role of carbon in boron suboxide thin films/ 미리보기
저자
Music, D
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
560.
서명
Role of delocalized nitrogen in determining the local atomic arrangement and mechanical properties of amorphous carbon nitride thin films/ 미리보기
저자
Holloway, B C
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
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