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1.
서명
A conductance model (approach) for kinetic studies: The Ti-Ta-Si system/ 미리보기
저자
Pelleg, Joshua
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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2.
서명
C~4F~8 dissociation in an inductively coupled plasma/ 미리보기
저자
Radtke, M. T
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
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원문제공마감년
3.
서명
Carbon deposition by electron beam cracking of hydrocarbons on Ta2Zn3O8 thin film phosphors/ 미리보기
저자
Kondoleon, Caroline A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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4.
서명
Cell adhesion and spreading on polymer surfaces micropatterned by ion beams/ 미리보기
저자
Satriano, C
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
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5.
서명
Change in surface roughness with the thickness of TiO2 film grown on MgO(001) by Ar-ion beam sputtering/ 미리보기
저자
Uchitani, Takeshi
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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6.
서명
Changes in surface states during epitaxial growth of BaTiO3 on SrTiO3 substrate in connection with composition deviation/ 미리보기
저자
Shimoyama, K
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
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7.
서명
Characteristics of a taper-seal type gasket for the Conflat(R) sealing system/ 미리보기
저자
Kurokouchi, Satoshi
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
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8.
서명
Characteristics of C~4F~8 plasmas with Ar, Ne, and He additives for SiO~2 etching in an inductively coupled plasma (ICP) reactor/ 미리보기
저자
Li, X
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
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9.
서명
Characteristics of reactive ion etching for zinc telluride using CH4 and H2 gases/ 미리보기
저자
Guo, Q X
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
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원문제공마감년
10.
서명
Characteristics of ultrathin SiO~2 films using dry rapid thermal oxidation and Pt catalyzed wet oxidation/ 미리보기
저자
Cho, M.-H
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
11.
서명
Characteristics of zinc oxide deposited on copper metallized Si substrates/ 미리보기
저자
Chang, Y S
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
12.
서명
Characteristics of ZnO:Cr thin films deposited by spray pyrolysis/ 미리보기
저자
Maldonado, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
13.
서명
Characteristic structures of the Si(111)-7X7 surface step studied by scanning tunneling microscopy/ 미리보기
저자
Miyake, K
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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14.
서명
Characterization of B-C-N hybrid prepared by ion implantation/ 미리보기
저자
Shimoyama, I
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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원문제공마감년
15.
서명
Characterization of inductively coupled plasma etched surface of GaN using Cl2/BCl3 chemistry/ 미리보기
저자
Tripathy, S
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
16.
서명
Characterization of nonstoichiometric TiO~2 and ZrO~2 thin films stabilized by Al~2O~3 and SiO~2 additions/ 미리보기
저자
Kuo, D.-H
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
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17.
서명
Characterization of residues formed by anhydrous hydrogen fluoride etching of doped oxides/ 미리보기
저자
Muscat, Anthony J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
18.
서명
Characterization of silicon-rich nitride and oxynitride films for polysilicon gate patterning. I. Physical characterization/ 미리보기
저자
Joseph, E A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
19.
서명
Characterization of sputtered indium tin oxide layers as transparent contact material/ 미리보기
저자
Franz, Gerhard
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
20.
서명
Characterization of step coverage change in ultraviolet-transparent plasma enhanced chemical vapor deposition silicon nitride films/ 미리보기
저자
Bierner, J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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원문제공마감년
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