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제한항목
Published for the Society by the American Institute of Physics
검색결과제한
자료유형
기사
(52)
저자
Aanesland, Ane
(1)
Alam, M J
(1)
Baba, Y
(1)
Barranco, A
(1)
Bear, Michael J
(1)
Cecchi, J. L
(1)
Chang, J. P
(1)
Chen, Francis F
(1)
Chen, H.-Y
(1)
Cheng, H.-P
(1)
Choo, C.-K
(1)
DeLoach, J D
(1)
Gonz�lez, P
(1)
Hannon, J B
(1)
Hayoz, J
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Holloway, P. H
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Huang, H
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Hwang, M.-S
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Jang, Seongsoo
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Johnson, Robert S
(1)
Keim, Enrico G
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Kim, Kyoung-Kook
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Langford, R M
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출판사
Published for the Society by the American Institute of Physics
(52)
발행년도
2003
(24)
2000
(14)
2001
(14)
검색간략리스트
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서명
저자
발행처
원문제공시작년
정렬
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5
10
15
20
30
50
100
1.
서명
PACS Headings Used in the Present Index/
저자
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
2.
서명
PACS Headings Used in the Present Index/
저자
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
3.
서명
Particle transport in a parallel-plate semiconductor reactor: Chamber modification and design criterion for enhanced process cleanliness/
저자
Nijhawan, Sandeep
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
4.
서명
Perpendicular magnetic anisotropy in ultrathin yttrium iron garnet films prepared by pulsed laser deposition technique/
저자
Popova, E
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
5.
서명
Phase boundary fluctuations on Si(111)/
저자
Hannon, J B
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
6.
서명
Phase development in annealed zirconia-titania nanolaminates/
저자
DeLoach, J D
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
7.
서명
Phase transformation in chromium nitride films/
저자
Chen, H.-Y
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
8.
서명
Photocatalytic, antifogging mirror/
저자
Takagi, K
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
9.
서명
Photocatalytic properties of TiO~2/WO~3 bilayers deposited by reactive sputtering/
저자
Takahashi, T
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
10.
서명
Photodesorption of gases in vacuum glazing/
저자
Ng, N
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
11.
서명
Photoinduced anisotropy of second-harmonic generation from azobenzene-modified alkylsiloxane monolayers/
저자
Yi, Y. W
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
12.
서명
Photoluminescence and heteroepitaxy of ZnO on sapphire substrate (0001) grown by rf magnetron sputtering/
저자
Kim, Kyoung-Kook
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
13.
서명
Photoluminescence of Mg-doped GaN grown by metalorganic chemical vapor deposition/
저자
Qu, B. Z
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
14.
서명
Photon-stimulated ion desorption from mono- and multilayered silicon alkoxide on silicon by core-level excitation/
저자
Baba, Y
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
15.
서명
Physical and electrical properties of low temperature (<100^oC) SiO~2 films deposited by electron cyclotron resonance plasmas/
저자
Rashid, R
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
16.
서명
Physical and electrical properties of noncrystalline Al2O3 prepared by remote plasma enhanced chemical vapor deposition/
저자
Johnson, Robert S
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
17.
서명
Plasma-based physical vapor deposition surface engineering processes/
저자
Matthews, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
18.
서명
Plasma deposition of optical films and coatings: A review/
저자
Martinu, Ludvik
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
19.
서명
Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO~2 from a Si(CH~3)~3Cl precursor and mixtures Ar/O~2 as plasma gas/
저자
Barranco, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2003
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
20.
서명
Plasma etch/deposition modeling: A new dynamically coupled multiscale code and comparison with experiment/
저자
Bear, Michael J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
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