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2000 삭제
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1.
서명
Reaction layer dynamics in ion-assisted Si/XeF2 etching: Temperature dependence/ 미리보기
저자
Sebel, P G M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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2.
서명
Reactive deposition of compounds by a cavity-hollow cathode direct current sputtering system/ 미리보기
저자
Kazemeini, Mehdi H
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
3.
서명
Reactive pulsed magnetron sputtering process for alumina films/ 미리보기
저자
Kelly, P J
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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원문제공마감년
4.
서명
Reactivity of heteropolyanions toward GaAs compound/ 미리보기
저자
Rothschild, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
5.
서명
Recommended practice for calibrating vacuum gauges of the thermal conductivity type/ 미리보기
저자
Ellefson, R E
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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6.
서명
Red SrTiO3:Pr,Al phosphor as potential field emission display material/ 미리보기
저자
Yokoyama, Meiso
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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7.
서명
Remote plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition of TiN from tetrakis-dimethyl-amido-titanium/ 미리보기
저자
Yun, Ju-Young
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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원문제공마감년
8.
서명
Residual stress formation in multilayered TiN/TaNx coatings during reactive magnetron sputter deposition/ 미리보기
저자
Nordin, M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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9.
서명
Role of delocalized nitrogen in determining the local atomic arrangement and mechanical properties of amorphous carbon nitride thin films/ 미리보기
저자
Holloway, B C
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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10.
서명
The role of feedgas chemistry, mask material, and processing parameters in profile evolution during plasma etching of Si(100)/ 미리보기
저자
Lane, J M
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
11.
서명
The role of oxygen in the intrinsic tensile residual stress evolution in sputter-deposited thin metal films/ 미리보기
저자
Misra, A
발행처
Published for the Society by the American Institute of Physics
원문제공시작년
2000
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원문제공마감년
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