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[가나다ABC : S]
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2000
Electrochemical Society
검색결과제한
자료유형
기사
(97)
저자
Bouchet, R
(2)
Lee, Y-H
(2)
Shimizu, Y
(2)
Sohn, K-S
(2)
Soman, R
(2)
Adachi, S
(1)
Ang, C H
(1)
Aono, H
(1)
Badenes, G
(1)
Baek, S K
(1)
Barbadillo, L
(1)
Basim, G B
(1)
Beregovsky, M
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Boubekeur, H
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Chou, F-C
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출판사
Electrochemical Society
(97)
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2000
(97)
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저자
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10
15
20
30
50
100
1.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Abrasive-Free Polishing for Copper Damascene Interconnection/
저자
Kondo, S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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2.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A General Optimization for Slurry Injection during Chemical Mechanical Polishing/
저자
Chou, F-C
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
3.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Method to Detect Oxygen Precipitates in Silicon Wafers by Highly Selective Reactive Ion Etching/
저자
Nakashima, K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
4.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Amorphous CNx layers from Neon Electron Cyclotron Resonance Plasmas with N2 and CH4 as Precursors/
저자
Barbadillo, L
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
5.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Analysis of Epitaxy of Polysilicon Films on Silicon (100) Wafers Deposited with Enlarged Microwave Plasma/
저자
Ryoo, K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
6.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Analytical Tools for the Characterization of Power Devices/
저자
Schulze, H-J
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
7.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A New Dummy-Free Shallow Trench Isolation Concept for Mixed-Signal Applications/
저자
Badenes, G
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
8.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Anisotropic Etching of SiC/
저자
Syv�j�rvi, M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
9.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Annealing of Fowler-Nordheim Stress-Induced Leakage Currents in Thin Silicon Dioxide Films/
저자
Ang, C H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
10.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Aspects of Barium Contamination in High Dielectric Dynamic Random Access Memories/
저자
Boubekeur, H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
11.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Asymmetrical Critical Current Density and Its Influence on Electromigration of Two-Level W-Plug Interconnection/
저자
Huang, J S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
12.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Characterization of Silicon Wafer Back Sides with Low Thermal Oxide Layers by Copper Deposition/
저자
Schmolke, R
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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13.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Characterization of sub-30 nm p+/n Junction Formed by Plasma Ion Implantation/
저자
Baek, S K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
14.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Chemical Etching Characteristics of GaAs(100) Surfaces in Aqueous HF Solutions/
저자
Adachi, S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
15.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Control of Arsenic Doping during Low Temperature CVD Epitaxy of Silicon (100)/
저자
Noort, W D van
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
16.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Depth Effect on the Morphology Change Induced by Hydrogen Annealing of Grown-in Defects in Silicon/
저자
Fujimori, H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
17.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Detection of the Defects Induced by Boron High-Energy Ion Implantation of Silicon/
저자
Hsu, W-C
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
18.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Dishing Effects during Chemical Mechanical Polishing of Copper in Acidic Media/
저자
Luo, Q
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
19.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Dose, Energy, and Ion Species Dependence of the Effective Plus Factor for Transient Enhanced Diffusion/
저자
Hobler, G
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
20.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effect of Hydrogen on the Structural and Electro-optical Properties of Zinc Oxide Thin Films/
저자
Kang, Y-S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
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