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[가나다ABC : S]
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174
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174
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1/9
페이지
제한항목
2001
Electrochemical Society
검색결과제한
자료유형
기사
(174)
저자
Lee, J W
(3)
Lee, J-M
(2)
Milita, S
(2)
Paul, E
(2)
Wang, P I
(2)
Afanas'ev, V V
(1)
Ahmadi, G
(1)
Ahn, J H
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Ahn, T-H
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출판사
Electrochemical Society
(174)
발행년도
2001
(174)
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서명
저자
발행처
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15
20
30
50
100
1.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - 150(degree)C Amorphous Silicon Thin-Film Transistor Technology for Polyimide Substrates/
저자
Gleskova, H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
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2.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Adsorption and Desorption Rate of Multicomponent Organic Species on Silicon Wafer Surface/
저자
Hobuka, H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
3.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A GaAs/AlAs Wet Selective Etch Process for the Gate Recess of GaAs Power Metal-Semiconductor Field-Effect Transistors/
저자
Chang, E Y
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
4.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Model for Mechanical Wear and Abrasive Particle Adhesion during the Chemical Mechanical Polishing Process/
저자
Ahmadi, G
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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5.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Model of Chemical Mechanical Polishing/
저자
Paul, E
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
6.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Anisotropic Etching of Polysilicon in a Cl2/CH3Br/O2 Plasma/
저자
Yi, W
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
7.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Annealing of ZrAlxOy Ultrathin Films on Si in a Vacuum or in O2/
저자
Rosa, E B O da
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
8.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Novel Method of Etching Copper Oxide Using Acetic Acid/
저자
Chavez, K L
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
9.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Novel Method of Structure Control in Si Thin Film Technology/
저자
Guliants, E A
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
10.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Photoelectrochemical Study of the GdMg Hydride Switchable Mirror/
저자
Vece, M Di
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
11.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Application of a CMP Model to Tungsten CMP/
저자
Paul, E
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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12.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Arsenic Redistribution during Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition of TiSi2 on Si/
저자
Fang, H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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13.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - A Rugged Oxygen Gas Sensor with Solid Reference for High Temperature Applications/
저자
Chowdhury, A K M S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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14.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Atomic Layer Deposition of AlOx for Thin Film Head Gap Applications/
저자
Paranjpe, A
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
15.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Atomic Layer Deposition of Ta(Al)N(C) Thin Films Using Trimethylaluminum as a Reducing Agent/
저자
Al�n, P
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
16.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Carrier Lifetime Analysis by Photoconductance Decay and Free Carrier Absorption Measurements/
저자
Schulze, H-J
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
17.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Characterization of Gd2O3 Films Deposited on Si(100) by Electron-Beam Evaporation/
저자
Landheer, D
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
18.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Characterization of Pure Water-Treated GaAs Surfaces by Measuring Contact Angles of Water Droplets/
저자
Matsushita, K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
19.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Characterization of Silicon-on-Sapphire Material and Devices for Radio Frequency Applications/
저자
Munteanu, D
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
20.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Characterization of the Thermal Reactions for Cu/Thermal SiO2 and Cu/Hydrogen Silsesquioxane on Silicon/
저자
Jeng, J S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
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