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Electrochemical Society
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(471)
저자
Lee, J W
(3)
Beattie, S. D
(2)
Bouchet, R
(2)
Denesuk, M
(2)
Do, Y R
(2)
Gao, Y
(2)
Habuka, H
(2)
Jeon, B S
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출판사
Electrochemical Society
(471)
발행년도
2001
(174)
1980
(166)
2000
(97)
2003
(34)
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서명
저자
발행처
원문제공시작년
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10
15
20
30
50
100
221.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Effect of Copper on Gate Oxide Integrity/
저자
Lin, Y H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
222.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Effect of Er Concentration on the Morphology and Photoluminescence of GaN:Er/
저자
Overberg, M E
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
223.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Effects of Surface Capping during Annealing on the Microstructure of Ultrathin SIMOX Materials/
저자
Johnson, B
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
224.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Evaluation of Hexafluorobenzene as an Environmentally Benign Dielectric Etch Chemistry/
저자
Chatterjee, R
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
225.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Influence of Feature-Scale Surface Geometry on CMP Processes/
저자
Yao, C-H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
226.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Mechanism of Si Incorporation and the Digital Control of Si Content during the Metallorganic Atomic layer Deposition of Ti-Si-N Thin Films/
저자
Min, J-S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
227.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Theoretical Analysis of the Baking Process in Two Polymer/Solvent Systems: PMMA/Anisole and PMDA-ODA/NMIP/
저자
Lin, W-J
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
228.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Thermal Conditions in Rapid Thermal Processing System Using Circular Infrared Lamp/
저자
Habuka, H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
229.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Thermally Induced Si(100)/SiO2 Interface Degradation in poly-Si/SiO2/Si Structures - Evidence for a Hydrogen-Stimulated Process/
저자
Afanas'ev, V V
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
230.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Thermal Stability of Sputtered Tungsten Carbide as Diffusion Barrier for Copper Metallization/
저자
Wang, S J
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
231.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - The Sensitivity of Thermal Donor Generation in Silicon to Self-interstitial Sinks/
저자
Voronkov, V V
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
232.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Thin Films of Amorphous Silicon-Carbon Alloy Prepared by Radio-Frequency Magnetron Sputtering/
저자
Maruyama, T
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
233.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Three-Dimensional Chemical Mechanical Planarization Slurry Flow Model Based on Lubrication Theory/
저자
Thakurta, D G
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
234.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Time Evolution of Boron-Doped Crystalline and Polycrystalline Silicon Resistance/
저자
Suzuki, K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
235.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Tin Doping of Silicon for Controlling Oxygen Precipitation and Radiation Hardness/
저자
Claeys, C
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
236.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Transparent Probe Test Structure for Electrical and Physical Characterization of Defects in Thin Films/
저자
Tringe, J W
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
237.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Ultraclean Two-Stage Aerosol Reactor for Production of Oxide-Passivated Silicon Nanoparticles for Novel Memory Devices/
저자
Ostraat, M L
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
238.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Uniform Nanoscale SiO2 Encapsulation of Zns Phosphors for Improved Aging Properties under Low Voltage Electron Beam Excitation/
저자
Do, Y R
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
239.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Use of Selective Anodic Bonding to Create Micropump Chambers with Virtually No Dead Volume/
저자
Veenstra, T T
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
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원문제공마감년
240.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Utilization of Optical Emission Spectroscopy for End-Point Detection during AlGaAs/GaAs and InGaP/GaAs Etching in BCl3/N2 Inductively Coupled Plasmas/
저자
Lee, J W
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사
원문복사 신청
원문제공마감년
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