충남대학교외국학술지지원센터

글로벌메뉴

  • HOME
  • sitemap

주메뉴

CNU Search

전체 ㅣ A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z ㅣ 가 나 다 라 마 바 사 아 자 차 카 타 파 하 기타
검색 타입
상세검색
검색어[가나다ABC : S]
총 471건 중 471건 출력
6/24 페이지 엑셀파일 출력

검색간략리스트

열거형 테이블형
101.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Dissociative Adsorption of H2 on the H/Si(100) Surface The Effect of Intradimer p-Bonding Disruption/ 미리보기
저자
Hwang, G S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
102.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Dose, Energy, and Ion Species Dependence of the Effective Plus Factor for Transient Enhanced Diffusion/ 미리보기
저자
Hobler, G
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
103.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Dry Etching of GaN/InGaN Multiquantum Wells Using Inductively Coupled Cl2/CH4/H2/Ar Plasma/ 미리보기
저자
Lee, J-M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
104.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Dry Etching of ZnO Using an Inductively Coupled Plasma/ 미리보기
저자
Lee, J-M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
105.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effect of Hydrogen on the Structural and Electro-optical Properties of Zinc Oxide Thin Films/ 미리보기
저자
Kang, Y-S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
106.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effect of Nitrogen Plasma Treatment on the Characteristics of AlN Thin Films/ 미리보기
저자
Cho, M-H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
107.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effect of oxygen on Thermocapillary Convection in a Molten Silicon Column under Microgravity/ 미리보기
저자
Azami, T
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
108.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effect of Particle Size of Chemical Mechanical Polishing Slurries for Enhanced Polishing with Minimal Defects/ 미리보기
저자
Basim, G B
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
109.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effects of Ge Content on the Oxidation Behavior of Poly-Si1-xGex Layers for Gate Electrode Application/ 미리보기
저자
Ahn, T-H
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
110.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effects of Pattern Density and Pitch on Interaction Distance and Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing/ 미리보기
저자
Park, Y B
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
111.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Effects of the Process Variable on Sputtered TiSix Polycide Gate Electrodes for sub-0.15 mm Memory Device Application/ 미리보기
저자
Kim, S-D
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
112.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrical and Compositional Properties of Co-Silicided Shallow p+-n Junction Using Si-Capped/Boron-Doped Si1-xGex Layer Deposited by UHVCME/ 미리보기
저자
Huang, H-J
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
113.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrical and Structural Properties of Ti/Au Ohmic Contacts to n-ZnO/ 미리보기
저자
Kim, H-K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
114.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrical Behavior of Cu Thin Fluorinated PECVD Oxide MIS Capacitors/ 미리보기
저자
Mallikarjunan, A
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
115.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrical Characteristics and Thermal Stability of W, WNx, and TiN Barriers in Metal/Ta2O5/Si Gate Devices/ 미리보기
저자
Lee, J W
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
116.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrical Properties of 3C-SiC Layers Grown on Silicon Substrates with a Novel Stress Relaxation Structure/ 미리보기
저자
Irokawa, Y
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
117.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrical Properties of Cobalt and Copper Contamination in Processed Silicon/ 미리보기
저자
Benton, J L
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
118.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Electrochemical Fabrication of Single-Crystalline Anatase TiO2 Nanowire Arrays/ 미리보기
저자
Zhang, X
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
119.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Enhancement Effect of C40 TiSi2 on the C54 Phase Formation/ 미리보기
저자
Chen, S Y
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
120.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Enhancement of Semiconductor Wafer Cleaning by Chelating Agent Addition/ 미리보기
저자
Gale, G W
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
저널기사 저널기사 원문복사 신청
원문제공마감년
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 다음 맨뒤
임시보관함보기

하단메뉴