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141.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Improvements in Both Thermal Stability of Ni-Silicide and Electrical Reliability of Gate Oxides Using a Stacked Polysilicon Gate Structure/ 미리보기
저자
Lee, J W
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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142.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Increased Copper Outplating from Dilute HF Solutions on Microstructurally Modified Silicon Surfaces/ 미리보기
저자
Chen, Z
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
143.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Inductively Coupled Plasma Etching of Doped GaN Films with Cl2/Ar Discharges/ 미리보기
저자
Cho, B C
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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144.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Influence on the Long-Term Stability of Polysilicon Resistors from Traces of Titanium and Tungsten/ 미리보기
저자
Rydberg, M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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145.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Infrared Spectroscopic Study of Decomposition of Ti(N(CH3)2)4/ 미리보기
저자
Driessen, J P A M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
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146.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - In Situ Rapid Thermal Oxidation and Reduction of Copper Thin Films and Their Applications in Ultralarge Scale Integration/ 미리보기
저자
Hu, Y Z
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
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147.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Internal Gettering for Ni Contamination in Czochralski Silicon Wafers/ 미리보기
저자
Sueoka, K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
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148.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Intrinsic Properties and Barrier Behaviors of Thin Films of Sputter-Deposited Single-Layered and Alternately Layered Tantalum Nitrides (Ta2N/TaN)/ 미리보기
저자
Chen, G S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
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149.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Investigation by Convergent Beam Electron Diffraction of the Stress around Shallow Trench Isolation Structures/ 미리보기
저자
Stuer, C
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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150.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Investigation of Aluminum-Indium Alloys for Interconnect Applications/ 미리보기
저자
Kailasam, S K
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
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151.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Investigation of Czochralski Silicon Grown with Different Interstitial Oxygen Concentrations and Point Defect Populations/ 미리보기
저자
Sama, S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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152.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Investigation of Polycrystalline Nickel Silicide Films as a Gate Material/ 미리보기
저자
Qin, M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
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153.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Investigation of Trimethylphosphine as a Source for +P31 Implantation Using a Cold-Cathode Implantation System for Silicon Device Fabrication/ 미리보기
저자
Oleszek, G M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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154.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Ionization and Mass Spectrometry of Decaborane for Shallow Implantation of Boron into Silicon I/ 미리보기
저자
Sosnowski, M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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155.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Kinetic and Diffusional Aspects of the Dissolution of Si in HF Solutions/ 미리보기
저자
Meerakker, J E A M van den
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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156.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Laser-Induced Fluorescence Measurement of Metastable Chlorine Ion Temperature in Time-Modulated Inductively Coupled Plasma/ 미리보기
저자
Kumagai, S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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157.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Lattice Strain around Platelet Oxide Precipitates in C- and N-Doped Silicon Epitaxial Wafers/ 미리보기
저자
Yonemura, M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
158.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Lifetime Measurements by Photoconductance Techniques in Wafers Immersed in a Passivating Liquid/ 미리보기
저자
Lago-Aurrekoetxea, R
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2001
자료유형
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원문제공마감년
159.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Low-Temperature Plasmaless Etching of Silicon Dioxide Film Using Chlorine Trifluoride Gas with Water Vapor/ 미리보기
저자
Saito, M
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
160.
서명
Semiconductor Devices, Materials, and Processing - Low-Temperature Preparation of Oxygen- and Carbon-Free Silicon and Silicon-Germanium Surfaces for Silicon and Silicon-Germanium Epitaxial Growth by Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition/ 미리보기
저자
Carroll, M S
발행처
Electrochemical Society
원문제공시작년
2000
자료유형
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원문제공마감년
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